● | 技術名稱 Technology | |||||||||
● | 發明人 Inventor |
鄭正元, 謝志華, 李侯慶, 陳逸嘉, 劉紹麒, 謝子楡, 黃智凱, | ||||||||
● | 所有權人 Asignee | 國立臺灣科技大學 | ||||||||
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技術摘要: | ||||||||||||||||||||||||||||||||
積層製造七大技術裡,選擇性雷射燒熔通常搭配粉床供粉系統,使用雷射的高密度功率瞬間融化高分子粉末,大部分可以製作成粉末的可以使用這種雷射技術製作3D列印元件。此種技術因利用單顆雷射源以路徑規劃方式使物件成型,相較於其他技術而言速度過慢,始終沒有改良成高速化機種。目前現階段的設備有使用超過兩顆雷射源使用拼接的方式進行燒結,但雷射拼接技術常會有過高重複區導致拼接失敗,且光學設備模組會因為列印區域變大而增加成本,拼接方式也無法有效的高速化。本專利提出一種頁寬式設計,將可容納448顆雷射源,利用空間差及平台移動方式,建構一條22公分的列印線,再透過另一方向的移動,可建立大範圍的列印區域,成功地開發一套高速化的半導體雷射3D列印設備。 |
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