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技術名稱 Technology
發明人 Inventor
郭俞麟, 鄭智元,
所有權人 Asignee 國立臺灣科技大學

專利國家 Country 申請號 Application No. 專利號 Patent No. 中心案號 Serial No.
中華民國 114104976 申請中 1130061TW0
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技術摘要:
本發明研究利用常壓電漿噴射束通入氬氣(Ar)/氫氣(H2)混合氣將鈦及其合金進行表面氫化處理,將氫氣儲存於材料內部,透過此技術可以在極短時間內達到氫化的效果。植入物手術屬於外物介入的手術,手術後常因體內過量的活性氧物種(Reactive Oxygen Species, ROS)產生發炎反應,而氫氣可以中和人體中最具破壞性的活性氧物種,進而減少發炎反應。

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