● | 技術名稱 Technology | |||||||||
● | 發明人 Inventor |
李雨青, 林憲維, 張登富, 羅俊傑, 潘泊宇, 黄鉦翔, 蕭育仁, | ||||||||
● | 所有權人 Asignee | 國立臺灣科技大學 | ||||||||
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技術摘要: | ||||||||||||||||||||||||||||||||
現行的半導體檢測機台對於光罩保護膜只能進行環境微塵的檢測,無法監測保護膜面對頻繁的強 UV 光照射老化變質問題,也無法檢測使用中保護膜的品質狀態除非破損,本發明配合簡易的振動量測系統搭配演算分析方法去找出保護膜更換時機。除了延長保護膜使用壽命以外又可以提升良率,勢必對相關產業有莫大的幫助。主要如下 一、收集保護膜振動頻率的初始資料,之後配合後續產線使用比對用 二、需要計算兩個以上頻率區段中的頻率 三、每次光罩使用時,比較初始與現行頻率,每一區段頻率均小於設定閥值,即可進行使用 四、若高頻區段有超過閥值而低頻沒有,則作業人員進行目檢確認 四、若兩個頻率區段均有超過閥值,則保護膜須立即更換 五、優點 – 當光罩保護膜皺而未破之前進行更換不會造成光罩汙染 六、應用面廣 一 各種波段的光罩保護膜均可使用 七、此演算法是一個透過振動頻率決定光罩保護膜的更換時機 |
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