國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-開發雙邊展開式之大面積週期可調全像干涉系統

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

李三良, 洪勇智, 吳偉泓, 謝志華,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
中華民國	104103034	I604286	1030091TW0

點閱數：1853

技術摘要：

一種新式的全像曝光微影系統，包含一分光鏡元件、兩組光纖及具有控制器的雙邊展開式置具進行光學圖案化曝光。以50-50 %的分光鏡將光源分成兩道光束，分別進入光纖進行光學耦合成同調性相同的光束。光纖不僅提供光束傳遞，亦可取代空間濾波器 (擴束器)達到光束展延的作用。本發明提供一套新式光學全像曝光術的系統開發，相較於傳統全像術容易因入射角度影響曝光面積，設計置具控制其雙邊沿相同軌跡展開，並在置具兩端放置兩個固定角度的光纖，於展開時可使光纖依照相同的入射角度投影進行圖案化曝光。

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