● | 技術名稱 Technology | |||||||||||||||||||||
● | 發明人 Inventor |
陳炤彰, 周炳伸, 杜維剛, | ||||||||||||||||||||
● | 所有權人 Asignee | 國立臺灣科技大學 | ||||||||||||||||||||
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點閱數:2147 |
技術摘要: | ||||||||||||||||||||||||||||||||
本專利有別於一般之研磨液,以一調節裝置控制研磨液中之氣體含量達到輔助拋光製程之方法,其氣體包括氧、二氧化碳、氮及其他單純反應氣體之含量,以氣體分壓方式使氣體於水中含量增加,以達到製程材料表面反應層之快速生成及表面全平坦化,使製程時間減短及表面品質改善。並由於添加裝置為使水中反應氣體加壓融入,製程進行時可使反應氣體快速析出,以達到與材料表面快速反應之方法,加速材料表面之移除率。 |
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