國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-電場輔助化學機械拋光系統及其方法

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

陳炤彰, 謝啟祥,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
中國	201110456130.2	CN103182687B	1000112CN0
中華民國	100143192	I462797	1000112TW0
美國	13/481,837	US9375821B2	1000112US0

點閱數：2137

技術摘要：

本發明係為一種電場輔助化學機械拋光系統及其方法其系統包括一本體、一拋光墊、一電源供應部及一研磨液，該本體係用以夾持一預定加工物件，該拋光墊係具有複數凹孔及複數溝槽，每一凹孔係對應一金屬底部，每一溝槽係對應兩個以上之金屬底部，而該電源供應部之正、負極係交錯連接複數金屬底部。而其方法係先將該研磨液分佈於該拋光墊上，並使該預定加工物件浸於該研磨液中，通電後產生電化學反應而將部份材料移除，並逐漸成一鈍化層，使該預定加工層在具有鈍化層的保護下逐漸被該拋光墊及該研磨液以機械力移除，直至研磨終點，即可獲得一表面帄坦化之預定加工物件；故，本發明兼具有效降低殘留應力、有效降低缺陷的產生、移除速率快及維持研磨顆粒均一性等優點及功效。

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