國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-甲烷於常壓電漿製備氮碳共滲梯度材料膜層

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

郭俞麟, 黃柏勛,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
中華民國	114149197	申請中	1140039TW0

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技術摘要：

本專利運用甲烷/氮氣/氫氣之相異的混和氣氛通入常壓電漿噴射束將鈦金屬製作成共滲梯度材料，以此提高金屬部件使用壽命之方法。其處理步驟為：將氮氣、氫氣與甲烷通入常壓電漿設備中，並激發電漿以產生電漿噴射束，在對待處理之工件進行滲氮碳化處理。處理參數如下：氮氣流量為0~100 slm，氫氣流量為0~3000 sccm，二氧化碳流量0~3000 sccm，電漿功率為0~800W，電漿頻率為0~35kHz；並將金屬工件放置於移動載台上方，並移動到常壓電漿噴射束下方進行常壓電漿滲氮碳化之處理，處理時間為0~60分鐘。

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