國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-常壓電漿製備氧碳氮共滲材料膜層

●

技術名稱 Technology

●

發明人 Inventor

郭俞麟, 徐睿, 郭兆渝, 詹詠翔,

●

所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

●

專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
中華民國	112126181	申請中	1120029TW0

點閱數：305

技術摘要：

本發明研究利用常壓電漿噴射束通入氮氣、氫氣與二氧化碳(或甲烷/乙烷/丙烷/丁烷/一氧化碳/乙炔等)將鋼材製備成滲碳氮化之梯度材料外，並且可於物件表面生成緻密的磁鐵礦(Fe3O4)，達到表面氧化層的效果，透過此項技術於極短時間下生成兩種層膜，且此兩膜層具優勢可產生相輔之效用，以此改善金屬物件之使用壽命與機械性質的方法，且相較於傳統之滲碳氮化法製程更貼近近年來推動的能源永續發展之目標。
以下為本發明技術之處理步驟為：將氮氣、氫氣與二氧化碳通入常壓電漿設備中，並啟動電漿以產生電漿噴射束，對預處理之工件進行滲氮碳化處理，氣體流量與機台設置之處理參數如下簡述之：氮氣流量設定為0~100 slm、氫氣流量設定範圍為0~3000 sccm、二氧化碳氣體(或甲烷/乙烷/丙烷/丁烷/一氧化碳/乙炔等)設定通入氣體為0~50 slm、電漿功率為0~999 W、電漿頻率為0~38 kHz。將預處理之金屬工件放置於移動載台上，並於移動載台之教導盒中書寫指令動作後匯入系統中，以此控制試片移動至常壓電漿噴射束下方進行滲碳氮化之製程，與同時進行氧化製程處理，處理時間範圍為0~60分鐘。

相關圖片：