| ● | 技術名稱 Technology | |||||||||||||||||
| ● | 發明人 Inventor |
黃炳照, 楊盛强, 許竣瑝, 蘇威年, 蔡秉均, 朱冠霖, | ||||||||||||||||
| ● | 所有權人 Asignee | 國立臺灣科技大學 | ||||||||||||||||
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| 技術摘要： |
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| 本技術揭露一種連續式濕式原子沉積技術，可自由選擇一種或多種前驅物均勻沉積在粉體上，相較於現今低產率的乾式原子沉積技術，沒有反應腔體容積限制，沒有繁瑣的製程，本技術更可以設計成連續式製程運用在產業上。 |
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