| ● | 技術名稱 Technology | |||||||||||||||||
| ● | 發明人 Inventor |
黃炳照, 楊盛强, 許竣瑝, 蘇威年, 蔡秉均, 朱冠霖, | ||||||||||||||||
| ● | 所有權人 Asignee | 國立臺灣科技大學 | ||||||||||||||||
| ● |
|
|||||||||||||||||
| 點閱數：1089 | ||||||||||||||||||
| 技術摘要： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 本技術揭露一種連續式濕式原子沉積技術，可自由選擇一種或多種前驅物均勻沉積在粉體上，相較於現今低產率的乾式原子沉積技術，沒有反應腔體容積限制，沒有繁瑣的製程，本技術更可以設計成連續式製程運用在產業上。 |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| 相關圖片： |
||||||||||||||||||||||||||||||||
| ||||||||||||||||||||||||||||||||
瀏覽人數：10493670
國立臺灣科技大學 產學處智財技轉中心 10607 台北市大安區基隆路 4 段 43 號 醫揚大樓 4 樓 TEL：02-2730-3244 或 02-2730-3727
2007~2024 © NTUST All Rights Reserved 著作權聲明
本系統採用 
專利行銷平台
