國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-連續式原子沉積製程

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

黃炳照, 楊盛强, 許峻瑝, 蘇威年, 蔡秉均, 朱冠霖,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
中華民國	112102178	申請中	1110058TW0

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技術摘要：

本技術揭露一種連續式濕式原子沉積技術，可自由選擇一種或多種前驅物均勻沉積在粉體上，相較於現今低產率的乾式原子沉積技術，沒有反應腔體容積限制，沒有繁瑣的製程，本技術更可以設計成連續式製程運用在產業上。

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