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技術名稱 Technology
發明人 Inventor
黃炳照, 楊盛强, 許竣瑝, 蘇威年, 蔡秉均, 朱冠霖,
所有權人 Asignee 國立臺灣科技大學

專利國家 Country 申請號 Application No. 專利號 Patent No. 中心案號 Serial No.
中華民國 112102178 申請中 1110058TW0
美國 18/304,449 申請中 1110058US0
中國 202310449900.3 申請中 1110058CN0
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技術摘要:
本技術揭露一種連續式濕式原子沉積技術,可自由選擇一種或多種前驅物均勻沉積在粉體上,相較於現今低產率的乾式原子沉積技術,沒有反應腔體容積限制,沒有繁瑣的製程,本技術更可以設計成連續式製程運用在產業上。

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