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技術名稱 Technology
發明人 Inventor
鄭正元, 何明樺, 蔡秉勳,
所有權人 Asignee 國立臺灣科技大學

專利國家 Country 申請號 Application No. 專利號 Patent No. 中心案號 Serial No.
中華民國 110132715 I775589 1100056TW0
美國 17/692,154 申請中 1100056US0
中國 202111033932.2 申請中 1100056CN0
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技術摘要:
下照式光固化技術在積層製造中,有著最佳的列印精細度,但列印速度的提升總受限於列印層脫離樹脂槽底的拉應力問題,因此在現今還是大多應用於小面積尺寸列印。本研究製作超疏滑薄膜改善拉應力的產生,藉著低表面能薄膜降低硬化光敏材料的黏附,並由穩定劑維持低表面能的結構。過程中參考了眾多低表面能薄膜製程方法,在測試與選擇中挑選較佳的製程方案,不僅完成低表面能薄膜達到超疏水與疏油界面,更測試了多種市售可取得之樹脂槽,分別有硬底鐵氟
龍槽、軟底鐵氟龍槽、矽膠槽、氧阻聚槽與超疏滑槽的拉應力特性比較,確認了超疏滑界面與降低拉應力有著明顯有效性,並可達成網狀物件的連續穩定列印,透過切換一般列印方法與連續列印方法,可使用於兩種主要特徵結構:網狀與實心物件,能夠列印多數產品的打樣於列印方法間的調整。


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