國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-超低表面能薄膜應用於光固化成行拉應力之方法

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

鄭正元, 何明樺, 蔡秉勳,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
中華民國	110132715	I775589	1100056TW0
美國	17/692,154	US 11,964,428B2	1100056US0
中國	202111033932.2	申請中	1100056CN0

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技術摘要：

下照式光固化技術在積層製造中，有著最佳的列印精細度，但列印速度的提升總受限於列印層脫離樹脂槽底的拉應力問題，因此在現今還是大多應用於小面積尺寸列印。本研究製作超疏滑薄膜改善拉應力的產生，藉著低表面能薄膜降低硬化光敏材料的黏附，並由穩定劑維持低表面能的結構。過程中參考了眾多低表面能薄膜製程方法，在測試與選擇中挑選較佳的製程方案，不僅完成低表面能薄膜達到超疏水與疏油界面，更測試了多種市售可取得之樹脂槽，分別有硬底鐵氟
龍槽、軟底鐵氟龍槽、矽膠槽、氧阻聚槽與超疏滑槽的拉應力特性比較，確認了超疏滑界面與降低拉應力有著明顯有效性，並可達成網狀物件的連續穩定列印，透過切換一般列印方法與連續列印方法，可使用於兩種主要特徵結構：網狀與實心物件，能夠列印多數產品的打樣於列印方法間的調整。

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