本專利擬利用創新技術，增加寬距分波多工傳輸(coarse wavelength division multiplexing, CWDM)技術所能傳送的波長通道數，寬距分波多工技術為已標準化技術，波長間距固定為20 nm，優點為其所用的光發射機光源可採用不需控溫的半導體雷射光源，比起另一高密度波長多工(Dense wavelength division multiplexing, DWDM)技術，可大幅降低光電元件及其控制與驅動電路的成本；但其缺點為，因通道波長間距較大，因此在可用的光通訊波長範圍內能使用的通道數較少。本專利技術將在每個CWDM通道同時傳送數個波長間距較小的通道，仍維持CWDM通道光源無需控溫的優點但可達到大幅提升波長通道數的目標。此技術在發射端將同一CWDM通道附近的多個不同波長光源封裝在同一載體或積體化製作在同一基材上，使之在不需溫度控制的條件下，對環境溫度變化有相近的波常飄移量，而在接收端採用可追蹤波長位置的接收器，使得各波長通道受環境溫度或元件性能老化等影響而產生波長飄移時，訊號仍可被有效解多工與分別接收。此系統同時整合寬距分波與高密度波分多工優點，可於低成本下增加訊息通道及傳輸量。
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