國立台灣科技大學-專利商品網-專利推廣清單-去除廢棄電子級硫酸中硼及其他雜質的方法與其連續製程系統

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

黃炳照, Keseven, Lakshmanan, 楊盛强, 蘇威年,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.	年費有效日期
中華民國	114130415	I 927845	1140020TW0	2029/05/31
中國	202511940140.1	申請中	1140020CN0	1900/01/01
美國	19/442,226	申請中	1140020US0	1900/01/01

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技術摘要：

一種專門用於處理和純化廢棄電子級硫酸(W-H₂SO₄)的電化學技術，該硫酸是在半導體製程中晶圓清洗後產生的。本發明可以實現零購買電子級全新硫酸的策略，並促進產業內部的循環經濟。該技術利用電化學還原選擇性地去除W-H₂SO₄中的硼雜質，使其能夠重新用於晶圓清洗。專門設計的基於鉑(Pt)、鎢(W)、鉛(Pb)和鈦(Ti)合金的陰極有助於硼的還原，而Ti-DSA陽極則支持氧化反應。
本發明還包括一個陽極溶解過程，用以再生沉積硼的陰極，確保系統能夠持續運行並實現資源的可持續利用。
此技術的核心關鍵是材料選擇與可控電位應用，該技術能夠選擇性地去除硼以外的其他雜質元素。該系統設計為中試規模流通式電化學反應槽(FTEC-AcidReGen)，具備可擴展的電極面積，能高效處理大量的W-H₂SO₄。此外，本發明還延伸至多階段流通式電化學反應槽，通過將多個相互連接的流通反應槽進行串聯處理，實現對多元素雜質的順序處理，最終生成高純度可重用的H₂SO₄。透過實施這項集成電化學技術，半導體產業能顯著降低化學品消耗，優化酸液回收，並通過閉環酸液再生促進環境可持續性。

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