關於我們 聯絡我們 研發人才登入


 
開發雙邊展開式之大面積週期可調全像干涉系統
 
zoomin      
 
技術名稱
Technology
開發雙邊展開式之大面積週期可調全像干涉系統
發明人
Inventor
李三良, 洪勇智, 吳偉泓, 謝志華,
所有權人
Asignee
國立臺灣科技大學

專利國家
Country
申請號
Application No.
專利號
Patent No.
中心案號
Serial No.
中華民國 104103034 申請中 1030091TW0
 
點閱數:282
技術摘要:
一種新式的全像曝光微影系統,包含一分光鏡元件、兩組光纖及具有控制器的雙邊展開式置具進行光學圖案化曝光。以50-50 %的分光鏡將光源分成兩道光束,分別進入光纖進行光學耦合成同調性相同的光束。光纖不僅提供光束傳遞,亦可取代空間濾波器 (擴束器)達到光束展延的作用。本發明提供一套新式光學全像曝光術的系統開發,相較於傳統全像術容易因入射角度影響曝光面積,設計置具控制其雙邊沿相同軌跡展開,並在置具兩端放置兩個固定角度的光纖,於展開時可使光纖依照相同的入射角度投影進行圖案化曝光。


 
   




國立臺灣科技大學 技轉中心 10607 台北市大安區基隆路 4 段 43 號 國際大樓 9 樓 TEL:02-2733-3141 #7346
2007~2017 © NTUST All Rights Reserved  著作權聲明
 參訪人數:
本系統採用專利行銷平台