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一種以氣體添加研磨液輔助拋光之方法
 
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技術名稱
Technology
一種以氣體添加研磨液輔助拋光之方法
發明人
Inventor
陳炤彰, 周炳伸, 杜維剛,
所有權人
Asignee
國立臺灣科技大學

專利國家
Country
申請號
Application No.
專利號
Patent No.
中心案號
Serial No.
日本 特願2014-084617 5721245 1010104JP0
中華民國 102113466 I 517935 1010104TW0
中國 201310185486.6 CN104108072B 1010104CN0
美國 14/251,603 US9193032 1010104US0
 
點閱數:526
技術摘要:
本專利有別於一般之研磨液,以一調節裝置控制研磨液中之氣體含量達到輔助拋光製程之方法,其氣體包括氧、二氧化碳、氮及其他單純反應氣體之含量,以氣體分壓方式使氣體於水中含量增加,以達到製程材料表面反應層之快速生成及表面全平坦化,使製程時間減短及表面品質改善。並由於添加裝置為使水中反應氣體加壓融入,製程進行時可使反應氣體快速析出,以達到與材料表面快速反應之方法,加速材料表面之移除率。


 
   




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