關於我們 聯絡我們 研發人才登入


 
抑制還原層應用於降低光固化列印分離力
 
     
 
技術名稱
Technology
抑制還原層應用於降低光固化列印分離力
發明人
Inventor
鄭正元, 鄭逸琳, 陳定閒, 陳貞佑,
所有權人
Asignee
國立臺灣科技大學

專利國家
Country
申請號
Application No.
專利號
Patent No.
中心案號
Serial No.
中華民國 107125948 申請中 1070010TW0
 
點閱數:109
技術摘要:
此研究目的為建立抑制層能夠使光固化樹脂抑制聚合的薄膜,在列印過程中光固化樹脂因曝光產生自由基時,薄膜中添加能抑制自由基或搶奪、吸收自由基的元素或材料,進而形成材料槽最底層無法固化之不固化層,並再於樹酯材料內添加可還原之材料或藉由電化學方式來還原此現象,使樹酯材料與薄膜達到還原循環的效果,以成功達成底面不固化之連續列印製程,也克服了目前光固化成型技術在列印速度上的限制。


 
   




國立臺灣科技大學 技轉中心 10607 台北市大安區基隆路 4 段 43 號 國際大樓 9 樓 TEL:02-2733-3141 #7346
2007~2018 © NTUST All Rights Reserved  著作權聲明
 參訪人數:
本系統採用專利行銷平台