國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-抑制還原層應用於降低光固化列印分離力

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技術名稱 Technology

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發明人 Inventor

鄭正元, 鄭逸琳, 陳定閒, 陳貞佑,

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所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

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專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.
美國	16/202,064	US 10,967,563 B2	1070010US0
中華民國	107125948	I660830	1070010TW0

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技術摘要：

此研究目的為建立抑制層能夠使光固化樹脂抑制聚合的薄膜，在列印過程中光固化樹脂因曝光產生自由基時，薄膜中添加能抑制自由基或搶奪、吸收自由基的元素或材料，進而形成材料槽最底層無法固化之不固化層，並再於樹酯材料內添加可還原之材料或藉由電化學方式來還原此現象，使樹酯材料與薄膜達到還原循環的效果，以成功達成底面不固化之連續列印製程，也克服了目前光固化成型技術在列印速度上的限制。

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