國立台灣科技大學-專利商品網-專利推廣清單-開發單軸控制之大面積週期可調全像干涉系統

●

技術名稱 Technology

●

發明人 Inventor

李三良, 洪勇智, 吳偉泓, 謝志華,

●

所有權人 Asignee

國立臺灣科技大學

●

專利國家 Country	申請號 Application No.	專利號 Patent No.	中心案號 Serial No.	年費有效日期
中華民國	104103033	I547770	1030090TW0	2023/08/31

點閱數：2615

技術摘要：

一種新式的全像曝光微影系統，包含一分光鏡元件、兩組光纖及具有單軸控制的置具進行光學圖案化曝光。以50-50 %的分光鏡將光源分成兩道光束，分別進入光纖進行光學耦合成同調性相同的光束。光纖不僅提供光束傳遞，亦可取代空間濾波器 (擴束器)達到光束展延的作用。本發明提供一套新式光學全像曝光術的系統開發，相較於傳統全像術容易因入射角度影響曝光面積，以特殊的置具進行單軸控制，置具上一端放置固定角度的光纖，另一端的反射鏡接收另一光纖入射的光束，使其反射於試片上進行圖樣化曝光。

相關圖片：