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開發單軸控制之大面積週期可調全像干涉系統
 
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技術名稱
Technology
開發單軸控制之大面積週期可調全像干涉系統
發明人
Inventor
李三良, 洪勇智, 吳偉泓, 謝志華,
所有權人
Asignee
國立臺灣科技大學

專利國家
Country
申請號
Application No.
專利號
Patent No.
中心案號
Serial No.
中華民國 104103033 I547770 1030090TW0
美國 1030090US0
日本 1030090JP0
 
點閱數: 591
技術摘要:
一種新式的全像曝光微影系統,包含一分光鏡元件、兩組光纖及具有單軸控制的置具進行光學圖案化曝光。以50-50 %的分光鏡將光源分成兩道光束,分別進入光纖進行光學耦合成同調性相同的光束。光纖不僅提供光束傳遞,亦可取代空間濾波器 (擴束器)達到光束展延的作用。本發明提供一套新式光學全像曝光術的系統開發,相較於傳統全像術容易因入射角度影響曝光面積,以特殊的置具進行單軸控制,置具上一端放置固定角度的光纖,另一端的反射鏡接收另一光纖入射的光束,使其反射於試片上進行圖樣化曝光。


 
   




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