當今資訊頻寬高度需求導致了通信系統的快速發展，分波多工(Wavelength Division Multiplexing; WDM)是其中的關鍵技術。為考慮到將帶有數個波長之相同輸入通道，經過多工器(Multiplexer)後，整合成載有相同數目波長的單一個輸出通道，一般都是藉由光纖傳輸，爾後此些波長所承載的資訊會透過解多工器(Demultiplexer)，再將各個波長訊號分別藉由不的輸出通道，傳達至不同區域，以完成寬頻訊號藉由光纖之遠距離傳輸。絕緣層上覆矽(Silicon-on-insulator, SOI)材料是近年來廣泛應用在高速且低功耗電子元件，因為其具有高折射率係數且可大幅縮小元件體積，同時製作方式與互補式金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor, CMOS)製程相容，其中矽線波導(Siliconwire)更有利於光電積體電路的發展。
Echelle光柵波長濾波器是現今體積小與良好資訊傳輸品質的多工器與解多工器，在波長濾波器中，平頂帶寬(Flat Top Passband)具有在傳輸過程中，對波長有較低的精準度容忍度，如此與光纖通訊傳輸有關的核心元件，如雷射與波長濾波器，都不需要使用昂貴的控溫裝置來維持特定的光波長數值。此計畫書中，在運用分佈布拉格反射(Distribute Bragg Reflector; DBR)為衍射光柵的Echelle結構中，我們提出以分佈布拉格反射光柵二維位置的改變以展現平頂帶寬效應，此可藉由光柵Blaze角度增加與Convolution來得到，其串擾(Crosstalk)比傳統多模干涉所達到的平頂帶寬具有30-dB的改進量。
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