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圖形化矽微米與奈米結構之製作方法
 
zoomin      
 
技術名稱
Technology
圖形化矽微米與奈米結構之製作方法
發明人
Inventor
洪勇智, 李三良,
所有權人
Asignee
國立臺灣科技大學

專利國家
Country
申請號
Application No.
專利號
Patent No.
中心案號
Serial No.
中華民國 101127311 I460121 1010044TW0
 
點閱數:543
技術摘要:
We have developed several top-down approaches in order to realize silicon nanostructure/microstructure patterns and heterojunction patterns which contain silicon nanostructures/microstructures. All patterning approaches are based on the same concept, protecting part of SiNWs from the attack during chemical etching. Different fabrication sequences lead to different resulting structures. Silicon microstructure patterns are realized with pre-patterning scheme (resist patterning prior to SiNW formation), while the other structures are realized with post-patterning scheme (resist patterning after SiNW formation).


 
   




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