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技術名稱 Technology
發明人 Inventor
陳炤彰, 李人傑, 莊程媐, 許仕忠, 蔡雨彤,
所有權人 Asignee 國立臺灣科技大學

專利國家 Country 申請號 Application No. 專利號 Patent No. 中心案號 Serial No.
中華民國 110119567 申請中 1100030TW0
美國 63/194,243 申請中 1100030US0
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技術摘要:
本發明為一種用於化學機械平坦化/研磨(Chemical-MechanicalPlanarization/ Polishing, CMP)製程之拋光墊修整器搖臂的調諧減震裝置,其可增進修整器之性能及整修之結果。更具體而言,本發明係關於一種應用調諧質量阻尼器(Tuned Mass Damper, TMD)調諧減震裝置的主動式或被用調諧質量阻尼器(Tuned Mass Damper, TMD)調諧減震裝置的主動式或被於對一拋光墊進行加工,該拋光墊為軟韌的彈性墊,其無法以固定切深的方式移除材料,而需以控制力量之方式以進行修整;以及,安裝於修整器搖臂本體中之調諧減震裝置,其用於針對修整器搖臂於修整擺動過程中之垂直及平行於修整器之受力震動,進行補償與弱化,以得到均勻及平整之拋光電修整結果

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