國立台灣科技大學-專利商品網-專利技術-用於拋光墊表面量測之均勻化量測方法

技術摘要：

專利US 2017/0059311係一種表面量測裝置，包括旋轉平台、動作校平器、測量模組及控制模組。旋轉平台係以一轉速旋轉物件。動作校平器係位於旋轉平台上。測量模組係在動作校平器上移動至數種量測位置。當測量模組位於量測位置之一者處時，量測模組以一採樣頻率測量物件之表面上的複數個採樣點的高度。控制模組根據測量模組的量測位置選擇性地調整旋轉平台的轉速或是測量模組的採樣頻率，以使得物件之表面上的至少一區域的採樣點之間的距離符合採樣規則。
以此案為例，由於一般製程中旋轉平台之轉速基本不會調整，而要在測試中調整測量模組之取樣頻率因其硬體限制有其難度，且調整每一取樣點間隔為等距後會使得靠近量測物圓心之取樣點數大幅降低。故此發明採調整乘載感測器之懸臂轉速，透過轉速調整補償來修正感測器相對於量測平台之切線速度不同時之資料密度，使得所取得之量測資料更易分析且具代表性。

本發明為一種針對旋轉平台上量測資訊的數據均勻化處理調整方法，針對感測系統之承載搖臂轉速做調整，在修正補償後搖臂上感測器對旋轉平台圓心之速度為可控制，可使得其量測軌跡為一對旋轉平台圓心之等速螺旋線，使其在待量測平台上之量測軌跡為等間距，表示每一量測軌跡對量測物件之平面密度皆相等；或調整搖臂速度使其量測軌跡依感測器於量測平台上於不同半徑區間之總量測數目為均等。2種方式皆可幫助使用者更有效的分析量測到之原始數據，使其於特定區域內之量測點數為所期望值，如此於後續分析還原待測物之表面形貌時，所得之資料不因單位面積內之點數不均而受影響，且可明確定義待測物每一特定半徑區間內所量測之資料點數為設定值。

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